行业知识
新闻资讯
联系我们
联系人: 周先生
手机: 15917453768
电话: 020-38880135 020-38880857
邮箱: sales01#gzyuli.com
地址: 广东省广州市天河区棠东官育路22号B239房
行业知识
离子辅助沉积工艺介绍
作者: 发布时间:2023-06-21 10:40:38点击:183
离子束辅助沉积(Ion Assisted Deposition,IAD)是在镀膜过程中将常规的电子束蒸发技术与离子体电弧技术相结合,它是目前镀制优质光学薄膜的主要方法之一。离子辅助镀膜技术是改善薄膜特性的重要手段,由源提供的高能离子与薄膜沉积分子碰撞后,将动能传递给薄膜分子,使得沉积分子具有很高的迁移率。从而改变薄膜的各种特性。如薄膜的致密度、附着力、应力、牢固度、折射率和吸收等。
离子源对薄膜特性的改变效果,不仅与基板种类、机器结构以及薄膜的制备工艺有关,而且与离子源的种类有关。
依据工作原理不同,当前常用离子源主要分为霍尔离子源、考夫曼离子源、射频离子源以及APS离子源。
相关标签:
新闻资讯
-
2024-04-16 10:13:18
超长工作距离变倍显微镜
-
2024-04-11 10:05:44
变倍显微镜
-
2024-04-10 10:34:12
12轴自动调芯系统介绍
-
2024-04-09 10:20:51
YAG焊接自动调芯系统
-
2024-03-07 10:57:47
观察组件
-
2024-03-06 10:40:58
干涉仪