行业知识

• 2023-06-20 10:35:57

  热蒸发镀膜工艺分类

  蒸发源是蒸发装置的关键部件，大多数金属材料都要求在1000~2000℃的高温下蒸发。因此，必须将蒸发材料加热到很高的蒸发温度。最常用的加热方式有:电阻法和电子束法。下面对两种加热方式的蒸发源进行分别讨论。 1. 电阻蒸发源。 采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状...

• 2023-06-21 10:40:38

  离子辅助沉积工艺介绍

  离子束辅助沉积(Ion Assisted Deposition，IAD)是在镀膜过程中将常规的电子束蒸发技术与离子体电弧技术相结合，它是目前镀制优质光学薄膜的主要方法之一。离子辅助镀膜技术是改善薄膜特性的重要手段，由源提供的高能离子与薄膜沉积分子碰撞后，将动能传递给薄膜分子...

• 2023-06-22 10:42:54

  霍尔离子源

  霍尔离子源的工作原理: 阴极灯丝两端通电，发热后溢出电子。电子在电场作用下向阳极运动。磁钢是永久磁铁，沿中心向上发散形成锥形磁场。在阳极表面，磁力线与电场线近似垂直交叉。因因此，向阳极前进的电子，受洛仑磁力作用(霍尔源电势的起源)，遵循左手定则，会在电磁场中做螺旋运动，与工...

• 2023-06-27 10:53:35

  考夫曼离子源

  考夫曼离子源的工作原理如图2-23所示。一般由放电室、离子束引出栅以及中和灯丝三部分组成。 放电室内阴极由钨丝制成，阴极受热溢出电子。阳极与阴极之间有电场，电场会加速电子。与进入放电室中的工作气体发生碰撞，使其电离，形成等离子体。 屏栅上加正电压，屏蔽放电室内电...

• 2023-06-28 11:09:41

  射频离子源

  射频离子源的工作原理图如图2-25所示。工作气体通过一个专门设计的气体绝缘器进人石英放电室，以1356MHz的射频功率通过电感合进入放电室离化工作气体，形成等离子体。等离子体中的正离子，在通过三层栅网时，先后经历加速和减速两个过程，被成功聚焦加速，形成正离子束。 中和器...

• 2023-06-29 10:22:33

  APS离子源

  APS离子源的内部如图2-27左图所示。离子源在工作过程中，石墨加热器首先给阴极（LaB6）加热，电子会从阴极发射出来，并向阳极运动。磁场线圈通电后产生磁场。电子加速运动穿过磁场，磁场在垂直于电子运动方向上施加洛伦兹力，电子绕着磁感线螺旋向上运动，大大增加了电子与Ar原子碰...

• 2023-07-04 10:08:41

  影响热蒸发镀膜质量的工艺参数

  薄膜的性质和结构主要决定于薄膜的成核与生长过程，实际上受许多淀积参数的影响，如淀积速率、粒子速度与角分布、粒子性质、衬底温度及真空度等。因此，在气相沉积技术中，为了监控薄膜的性质与生长过程，必须对淀积参数进行有效的测量与监控。在所有沉积技术中，淀积速率和膜厚是最重要的薄膜淀...

• 2023-07-05 10:14:36

  膜厚的分类

  所谓薄膜是指在基板的垂直方向上所堆积的 1~10的原子层或分子层。在此方向上，薄膜具有微观结构。 厚度是指两个完全平整的平行平面之间的距离，是一个可观测到实体的尺寸。因此，这个概念是一个几何概念。理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离。由于薄膜仅在厚度方向是微观...