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溅射过程-沉积薄膜的纯度
作者： 发布时间：2023-08-30 10:01:35点击：229
沉积薄膜的纯度: 为了提高淀积薄膜的纯度，必须尽量减少淀积到基片上杂质的量。这里所说的杂质主要指真空室的残余气体。因为，通常有约百分之几的溅射气体分子注人淀积薄膜中，特别在基片加偏压时。若真空室容积为 V.残余气体分压为 P。，氲气分压为 PAr，送人真空室的残余气体量为 Q。，气量为Qa，则有
Qc=PcV QAr=PArV
即
Pc = PArQc/ QAr
由此可见，欲降低残余气体压力 Pc，提高薄膜的纯度，可采取提高本底真空度和增加送鼠量这两项有效措施。本底真空度应为10-3~10-4Pa较合适。
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