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溅射过程-淀积过程中的污染
淀积过程中的污染: 众所周知,在通人溅射气体之前,把真空室内的压强降低到高真空区内 (10-4Pa)是很必要的。因此,原有工作气体的分压极低即便如此,仍可存在许多污染源:
1.真空室壁和真空室中的其他零件可能会吸附气体、水汽和二氧化碳。由于辉光中电子和离子的轰击作用,这些气体可能重新释出。因此,可能接触辉光的一切表面都必须在淀积过程中适当冷却,以便使其在淀积的最初几分钟内达到热平衡;也可在抽气过程中进行高温烘烤。
2.在溅射气压下,扩散泵抽气效力很低,扩散泵油的回流现象可能十分严重。由于阻尼器各板间的间隔距离相当于此压强下的若干倍平均自由程,故仅靠阻尼器将不足以阻止这些气体进入真空室。
因此,通常需要在放电区与阻尼器之间进行某种形式的气体调节,即在系统中利用高真空阀门作为节气阀,即可轻易地解决这一问题。另外,如果将阻尼器与涡轮分子泵结合起来代替扩散泵,将能消除这种污染。
3.基片表面的颗粒物质对薄膜的影响是会产生针孔和形成淀积污染。因此淀积前应对基片进行彻底的清洗,尽可能保证基片不受污染或携带微粒状污物。
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