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溅射镀膜工艺-溅射机理
作者： 发布时间：2023-09-05 10:01:33点击：177
溅射现象很早就为人们所认识，通过大量实验研究，对这一重要物理现象得出以下几点结论:
1) 溅射率随入射离子能量的增加而增大;而在离子能量增加到一定程度时,由于离子注入效应，溅射率将随之减小;
2) 溅射率的大小与入射粒子的质量有关;
3) 当入射离子的能量低于某一临界值 (闽值) 时，不会发生溅射
4) 溅射原子的能量比蒸发原子的大许多倍;
5) 入射离子的能量低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规律。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度最大的方向。
6) 因为电子的质量小，所以，即使用具有极高能量的电子轰击靶材时，也不会产生溅射现象。
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