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平面基板(正方形)

品牌:西格玛光机

产地:日本

产品简介:

单面经过高精度抛光,精度达到激光反射镜水平的,表面损伤很少的平面基板(正方形)。它可以作为特订反射镜等蒸镀薄膜的基板使用.平面基板(正方形)也是可以承接制造在平面基板上蒸镀膜客户要求的镀膜的产品。

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平面基板(正方形)

     单面经过高精度抛光,精度达到激光反射镜水平的,表面损伤很少的平面基板(正方形)。它可以作为特订反射镜等蒸镀薄膜的基板使用.

注意:

      1.平面基板两面都没有镀膜。玻璃表面存在3.5~4%的反射。

       2.透过平面基板(反面抛光面)使用时,透过光束有可能会稍微倾斜。透过使用时,请     使用平行平面基板(OPB,OPSQ,OPSQK).

      3.产品中不附有保证面型精度数据。需要保证面型精度数据文件时,需要额外文件制作费用。请咨询我们了解情况。


通用指标:     

材质

BK7 合成石英 硬质玻璃(派热克斯®玻璃等)

平行度

3′

有效直径

外径的90%或外形尺寸90%的长方形内切圆或椭圆


产品外形图:

功能说明图:


透过率波长特性(参考数据)


指标:

1571307251(1).jpg

其他信息:

       平面基板(正方形)也是可以承接制造在平面基板上蒸镀膜客户要求的镀膜的产品。

        从丰富细化的形状,尺寸,厚度,面型精度等的系列产品中,选择符合您的技术要求的产品。


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