产品中心
新闻资讯
- 西格玛光机株式会社产品标签更换新款式重要通知
- 西格玛光机株式会社2020年4月通知消色差双胶合柱面透镜(CDL) 更改生产管理方式的通知
- 西格玛光机2020年新产品X轴超小型5相步进电机自动平台
- SigmaKoki西格玛光机与洪明辉教授团队一直紧密合作，洪明辉教授团队开发出新型纳米光学显微镜，可配合用于生产线
联系我们
联系人： 周先生
手机： 15917453768
电话： 020-38880135 020-38880857
邮箱： sales01#gzyuli.com
地址： 广东省广州市天河区棠东官育路22号A309房
高精度专业级无掩膜直写光刻设备
此款设备为高精度专业级无掩膜直写光刻设备 应用于大规模集成电路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工，有高精度工作平台，可实现8英寸的基底尺寸（可扩展） 可实现0.5μm的亚微米线宽分辨率，配备高精度套刻和背面对准功能，高产能曝光，也可接受客制化订制。
客服1 
客服2