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LDW-X6无掩模直写光刻设备

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产品简介：LDW-X6无掩模直写光刻设备是由合肥芯暑微电子装备有限公司自主研发生产的一款高端光刻设备，该设备可以满足130nm节点的掩模版制造需求，同时应用于多种微纳加工领域。

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无掩模直写光刻设备

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    LDW-X6无掩模直写光刻设备是由合肥芯暑微电子装备有限公司自主研发生产的一款高端光刻设备，该设备可以满足130nm节点的掩模版制造需求，同时应用于多种微纳加工领域。

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